申請號: 201721503954.X
申請日: 2017.11.10
國家/省市:中(zhong)國江蘇(32)
主分類號:B24D 11/04(2006.01)
授權公告號:207448258U
授權公告日:2018.06.05
分類號: B24D 11/04(2006.01); B24D 11/02(2006.01); B24D 3/28(2006.01)
發明人: 陳(chen)瑞和(he); 陶海征; 高朋召; 郭(guo)文明; 陳(chen)沈萍
代理人: 蘇向銀
代理(li)機構:北(bei)京東方靈盾知識產權代理(li)有(you)限公司(si)(11506)
申請人地址:江(jiang)蘇省鹽城市鹽都區鹽龍街道辦事處青年(nian)路南(nan)、鳳凰南(nan)路西
摘要: 本實用新型公開了一種粗磨拋光一次完成的雙面磨砂布,基(ji)(ji)板(ban)(ban)由(you)聚(ju)乙烯丙綸(lun)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)、聚(ju)丙烯層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)和(he)粘(zhan)載(zai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)依次(ci)通過防水膠粘(zhan)合(he),復合(he)基(ji)(ji)布(bu)的(de)上(shang)表(biao)(biao)面(mian)(mian)與(yu)下(xia)表(biao)(biao)面(mian)(mian)設(she)(she)置(zhi)第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)基(ji)(ji)板(ban)(ban)與(yu)第(di)二基(ji)(ji)板(ban)(ban),第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)基(ji)(ji)板(ban)(ban)與(yu)第(di)二基(ji)(ji)板(ban)(ban)的(de)聚(ju)乙烯丙綸(lun)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)通過粘(zhan)合(he)劑粘(zhan)合(he)復合(he)基(ji)(ji)布(bu)的(de)上(shang)表(biao)(biao)面(mian)(mian)與(yu)下(xia)表(biao)(biao)面(mian)(mian),第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)基(ji)(ji)板(ban)(ban)的(de)粘(zhan)載(zai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)與(yu)第(di)二基(ji)(ji)板(ban)(ban)的(de)粘(zhan)載(zai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)設(she)(she)置(zhi)第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)與(yu)第(di)二磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng),第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)的(de)磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)大小(xiao)大于第(di)二磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)的(de)磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)的(de)大小(xiao),磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)一(yi)(yi)(yi)(yi)端嵌入在(zai)粘(zhan)載(zai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)的(de)圓形凹(ao)槽內,磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)的(de)另一(yi)(yi)(yi)(yi)端露出所述圓形凹(ao)槽,基(ji)(ji)板(ban)(ban)設(she)(she)置(zhi)多個貫穿基(ji)(ji)板(ban)(ban)表(biao)(biao)面(mian)(mian)上(shang)下(xia)的(de)通孔,本實(shi)用新型防止摩擦過程中產生的(de)粉塵堵塞砂(sha)布(bu)表(biao)(biao)面(mian)(mian),砂(sha)布(bu)不易變(bian)形,減小(xiao)了磨(mo)(mo)砂(sha)顆(ke)粒(li)(li)(li)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)的(de)磨(mo)(mo)損,粗磨(mo)(mo)拋光(guang)一(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)完成,降低(di)了生產成本。
主權利要求
一(yi)(yi)(yi)種粗磨(mo)(mo)(mo)拋(pao)光一(yi)(yi)(yi)次完(wan)成的(de)(de)(de)(de)雙面(mian)(mian)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)布,其特(te)征在于(yu),包(bao)括復合(he)(he)(he)基(ji)布、基(ji)板(ban)和磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒層(ceng),所(suo)(suo)述(shu)(shu)基(ji)板(ban)由聚(ju)乙烯(xi)丙(bing)綸(lun)層(ceng)、聚(ju)丙(bing)烯(xi)層(ceng)和粘(zhan)(zhan)(zhan)載(zai)層(ceng)依次通過防水膠(jiao)粘(zhan)(zhan)(zhan)合(he)(he)(he),所(suo)(suo)述(shu)(shu)復合(he)(he)(he)基(ji)布的(de)(de)(de)(de)上(shang)表(biao)面(mian)(mian)與(yu)(yu)下表(biao)面(mian)(mian)設(she)置第(di)(di)(di)(di)一(yi)(yi)(yi)基(ji)板(ban)與(yu)(yu)第(di)(di)(di)(di)二(er)基(ji)板(ban),第(di)(di)(di)(di)一(yi)(yi)(yi)基(ji)板(ban)與(yu)(yu)第(di)(di)(di)(di)二(er)基(ji)板(ban)的(de)(de)(de)(de)聚(ju)乙烯(xi)丙(bing)綸(lun)層(ceng)通過粘(zhan)(zhan)(zhan)合(he)(he)(he)劑粘(zhan)(zhan)(zhan)合(he)(he)(he)所(suo)(suo)述(shu)(shu)復合(he)(he)(he)基(ji)布的(de)(de)(de)(de)上(shang)表(biao)面(mian)(mian)與(yu)(yu)下表(biao)面(mian)(mian),所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)(di)(di)一(yi)(yi)(yi)基(ji)板(ban)的(de)(de)(de)(de)粘(zhan)(zhan)(zhan)載(zai)層(ceng)與(yu)(yu)所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)(di)(di)二(er)基(ji)板(ban)的(de)(de)(de)(de)粘(zhan)(zhan)(zhan)載(zai)層(ceng)設(she)置第(di)(di)(di)(di)一(yi)(yi)(yi)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒層(ceng)與(yu)(yu)第(di)(di)(di)(di)二(er)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒層(ceng),所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)(di)(di)一(yi)(yi)(yi)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒層(ceng)的(de)(de)(de)(de)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒大小大于(yu)所(suo)(suo)述(shu)(shu)第(di)(di)(di)(di)二(er)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒層(ceng)的(de)(de)(de)(de)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒的(de)(de)(de)(de)大小,所(suo)(suo)述(shu)(shu)粘(zhan)(zhan)(zhan)載(zai)層(ceng)設(she)置多(duo)個(ge)圓(yuan)形凹槽,所(suo)(suo)述(shu)(shu)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒一(yi)(yi)(yi)端嵌(qian)入所(suo)(suo)述(shu)(shu)圓(yuan)形凹槽內,所(suo)(suo)述(shu)(shu)磨(mo)(mo)(mo)砂(sha)(sha)(sha)顆(ke)(ke)(ke)粒的(de)(de)(de)(de)另(ling)一(yi)(yi)(yi)端露出(chu)所(suo)(suo)述(shu)(shu)圓(yuan)形凹槽。