近日，國家知識產權局信息顯示，深圳中機新材料有限公司申請一項名為“一種用于金剛石襯底的精拋液及其制備方法、金剛石襯底的拋光方法”的專利，公開號CN120365854A，申請日期為2025年04月。

       本發明公開了一種用于金剛石襯底的精拋液及其制備方法、金剛石襯底的拋光方法，涉及金剛石加工技術領域。用于金剛石襯底的精拋液包括第一精拋液或第二精拋液，其中：第一精拋液包括以下原料：第一磨料1-7份(fen)(fen)、分(fen)散(san)劑(ji)(ji)0.1-1份(fen)(fen)、懸(xuan)浮劑(ji)(ji)0.1-1份(fen)(fen)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)劑(ji)(ji)2-3份(fen)(fen)，余量為水，合計100份(fen)(fen)，第一磨(mo)(mo)料(liao)包括金(jin)剛石(shi)或氧(yang)(yang)(yang)化(hua)鋁；第二(er)精(jing)拋液包括以(yi)下原料(liao)：第二(er)磨(mo)(mo)料(liao)89-97份(fen)(fen)、分(fen)散(san)劑(ji)(ji)0.1-1份(fen)(fen)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)劑(ji)(ji)3-10份(fen)(fen)，合計100份(fen)(fen)，第二(er)磨(mo)(mo)料(liao)包括硅溶膠。通過氧(yang)(yang)(yang)化(hua)劑(ji)(ji)提高金(jin)剛石(shi)襯底的表面能，軟(ruan)化(hua)表面，使(shi)(shi)金(jin)剛石(shi)襯底更(geng)容(rong)易與(yu)磨(mo)(mo)料(liao)進行(xing)物(wu)理切削；通過加入分(fen)散(san)劑(ji)(ji)和懸(xuan)浮劑(ji)(ji)使(shi)(shi)磨(mo)(mo)料(liao)顆(ke)粒分(fen)散(san)均勻(yun)，獲得相對一致(zhi)的加工表面。

       金(jin)(jin)剛石作為一(yi)種具(ju)(ju)有極高(gao)硬度(du)和(he)硬脆特(te)性的材料，廣泛應用(yong)于(yu)各個(ge)領域，如(ru)電子、光學(xue)、工(gong)具(ju)(ju)加工(gong)等(deng)。目前需要對金(jin)(jin)剛石晶體進(jin)行切割、研磨(mo)、拋光等(deng)工(gong)序才能夠(gou)對金(jin)(jin)剛石進(jin)行工(gong)業化利用(yong)。

       金(jin)剛石拋光(guang)(guang)(guang)技(ji)術主要有機(ji)(ji)械(xie)(xie)(xie)拋光(guang)(guang)(guang)、熱化(hua)學拋光(guang)(guang)(guang)、激光(guang)(guang)(guang)拋光(guang)(guang)(guang)和化(hua)學機(ji)(ji)械(xie)(xie)(xie)拋光(guang)(guang)(guang)等，其中(zhong)化(hua)學機(ji)(ji)械(xie)(xie)(xie)拋光(guang)(guang)(guang)（CMP）通過(guo)在機(ji)(ji)械(xie)(xie)(xie)拋光(guang)(guang)(guang)過(guo)程(cheng)中(zhong)加入氧(yang)(yang)化(hua)劑，氧(yang)(yang)化(hua)碳原子提高(gao)拋光(guang)(guang)(guang)速率(lv)，是一(yi)種利用(yong)(yong)機(ji)(ji)械(xie)(xie)(xie)與化(hua)學氧(yang)(yang)化(hua)協同作用(yong)(yong)來(lai)實現(xian)工件(jian)表(biao)面(mian)平坦化(hua)的技(ji)術，具有表(biao)面(mian)損傷小、粗糙度低(di)、設備簡單、運行維護成本低(di)，拋光(guang)(guang)(guang)后的表(biao)面(mian)污染較輕等優點,。

       但(dan)由于金剛(gang)石的(de)化(hua)學(xue)惰性極高，硬度極高，常規的(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)液(ye)(ye)難以(yi)達到(dao)理想的(de)超光(guang)(guang)滑(hua)表面和(he)無損傷表面，因(yin)此市面上用于金剛(gang)石襯底的(de)精拋(pao)(pao)液(ye)(ye)幾乎沒(mei)有。因(yin)此開(kai)發(fa)可用于金剛(gang)石襯底的(de)精拋(pao)(pao)液(ye)(ye)，對于克服金剛(gang)石拋(pao)(pao)光(guang)(guang)工藝中存在(zai)的(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)速率低(di)、表面粗糙度低(di)、表面質量差等缺(que)陷具有重要意義。

       關于中機新材

       深(shen)圳中機新(xin)材(cai)料(liao)有限公(gong)司（簡稱中機新(xin)材(cai)）是(shi)一家專注于高(gao)(gao)硬(ying)脆材(cai)料(liao)和高(gao)(gao)性能研磨(mo)拋(pao)光材(cai)料(liao)的技(ji)術(shu)研發、生產及銷售的高(gao)(gao)新(xin)技(ji)術(shu)企業。有近百項發明(ming)專利；榮獲2022年中國創(chuang)新(xin)創(chuang)業大(da)賽全國賽新(xin)材(cai)料(liao)組優秀企業獎；尤其在第三(san)代(dai)半(ban)導體晶(jing)圓研磨(mo)拋(pao)光應(ying)用領域，公(gong)司取(qu)得(de)多項關鍵性技(ji)術(shu)突破，持續為(wei)客戶高(gao)(gao)質量穩定供應(ying)。產品廣泛應(ying)用于半(ban)導體、光電、3C、新(xin)能源等領域。