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一種硅晶片拋光液

關鍵詞 硅晶片 , 拋光液|2017-08-24 10:16:09|行業專利|來源 中國磨料磨具網
摘要 申請號:201710461127.7申請日:2017.06.18國家/省市:中國江蘇(32)公開號:107043599A公開日:2017.08.15主分類號:C09G1/02(20...
申請號: 201710461127.7
申請日: 2017.06.18
國家/省市: 中國江蘇(32)
公開號: 107043599A
公開日: 2017.08.15
主分類號: C09G 1/02(2006.01)
分類號: C09G 1/02(2006.01)
申請人: 沈水平
發明人: 沈水平
申請人地址: 江蘇省南通市啟東市濱江鎮新橋村四組5號

摘要: 本發明公開一種硅晶片拋光液,按質量份數計包括以下組分:20份的硅溶膠磨料、0.1份的六羥丙基丙二胺、2份的四羥乙基乙二胺、0.1份的烷基醇酰胺、80份的去離子水。該硅晶片拋光液,不腐蝕污染設備,容易清洗,且拋光速率快,平整性好,表面質量好。 翻譯

主權利要求
1.一種硅晶片拋光液,其特征在于,按質量份數計包括以下組分:20份的硅溶膠磨料、0.1份的六羥丙基丙二胺、2份的四羥乙基乙二胺、0.1份的烷基醇酰胺、80份的去離子水。
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