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高純碳化硅微量元素的測定啟用新國標

關鍵詞 碳化硅|2019-09-02 09:30:49|來源 粉體網
摘要 碳化硅具有高機械強度、化學穩定、耐腐蝕等性能,是一種非常重要的基礎材料。而超細粉體在集成系統、電子技術、光子技術、精密儀器、國防工業和機械工業等多種領域里廣泛應用。在這些應用中粉末...

碳化硅具(ju)有(you)高機械強度、化學穩定、耐腐蝕等性能,是(shi)(shi)一(yi)種非常重要的(de)(de)(de)(de)基礎材(cai)料。而超細粉(fen)體在(zai)集(ji)成系統、電(dian)子技術、光子技術、精密儀器(qi)、國防工(gong)業和機械工(gong)業等多種領(ling)域里廣(guang)泛應用(yong)。在(zai)這些(xie)應用(yong)中粉(fen)末(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)純度直接影響(xiang)最終(zhong)產(chan)品的(de)(de)(de)(de)質(zhi)量,而粉(fen)末(mo)(mo)表面各種微量雜質(zhi)元素的(de)(de)(de)(de)量直接決(jue)定著粉(fen)末(mo)(mo)純度,因此建(jian)立碳化硅(gui)粉(fen)表面各種微量雜質(zhi)元素量的(de)(de)(de)(de)檢測方法是(shi)(shi)很必要的(de)(de)(de)(de)。

2019年9月(yue)1日起,高(gao)純碳化硅微(wei)量(liang)元素的測定啟(qi)用新國標(GB/T37254-2018)。

高純碳(tan)化硅(gui)微量元素(su)的測定(GB/T37254-2018)規定了(le)采用電(dian)感耦合(he)等(deng)離子體原子發射光譜(ICP-OES)法(fa)和電(dian)感耦合(he)等(deng)離子體質譜(ICP-MS)法(fa)測定高純碳(tan)化硅(gui)中微量元素(su)含量的方法(fa)。

本標準(zhun)適用于碳(tan)(tan)化(hua)硅(gui)質(zhi)量分數含量大于或(huo)等于99.9%的(de)高純碳(tan)(tan)化(hua)硅(gui)材料(liao)中鋁、砷、鈣、鉻、銅、鐵、汞、鉀、鎂(mei)、錳、鈉、鎳、鉛(qian)、硫、鈦、鋅等16種元素的(de)測(ce)定(ding)。各(ge)元素的(de)測(ce)定(ding)范圍(wei)見(jian)表1(以質(zhi)量分數計)。

表(biao)1:高純(chun)碳化硅微量元素(su)的測定(ding)(GB/T37254-2018)

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附陶瓷行業其他標準(zhun)的實(shi)施情(qing)況

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信(xin)息來源中(zhong)國(guo)標(biao)準服務網,中(zhong)國(guo)粉體網編輯整理

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