日前獲悉，中國新興半導體存儲器企業合肥長鑫計劃從半導體制造設備廠商荷蘭阿斯麥（ASML）引進最尖端設備。報道稱，中國由于與美國的貿易戰和(he)高(gao)科技摩擦日趨激烈，越來(lai)越難(nan)以(yi)從美國引進技術。為了發展屬(shu)于產業創新關鍵(jian)的半(ban)導(dao)體，將轉向采(cai)購歐(ou)洲設備(bei)以(yi)尋找出(chu)路。

　　據《日本經濟新(xin)聞》網站10月23日報道，合肥(fei)長(chang)鑫力爭采購的是(shi)被(bei)稱(cheng)為“極紫外線（EUV）光刻機”的最(zui)尖(jian)端生產設(she)備。據(ju)稱(cheng)這是(shi)推(tui)動屬于(yu)半導體性(xing)(xing)能提高關鍵的“微細化”的新(xin)一代技術，每臺設(she)備價格高達約1億歐元。據(ju)稱(cheng)最(zui)大DRAM（隨機存儲器(qi)）制造商韓國(guo)三星電子(zi)已經試驗(yan)性(xing)(xing)引進。

　　阿斯麥(mai)對《日本經濟新(xin)聞》表(biao)示(shi)，“將平等對待客戶”，提(ti)出了(le)向(xiang)中(zhong)國企(qi)業銷售沒有(you)問題這一看法。在(zai)行業內有(you)猜測認為，中(zhong)國半導體代工(gong)企(qi)業中(zhong)芯國際集成電路(lu)制造（SMIC）也已經向(xiang)阿斯麥(mai)訂購了(le)極(ji)紫外線(xian)光刻機。