11月2日，在第九屆(jie)中國(guo)（無(wu)錫）國(guo)際新(xin)(xin)能(neng)源大會開幕當天，保利協鑫(xin)(xin)重磅發(fa)(fa)布(bu)TS+系列第二代黑(hei)硅片，引(yin)發(fa)(fa)客商廣泛關注。TS+黑(hei)硅片采用保利協鑫(xin)(xin)最(zui)新(xin)(xin)一代濕(shi)法黑(hei)硅技術，其效(xiao)率更(geng)(geng)高、成(cheng)本更(geng)(geng)低，更(geng)(geng)兼容高效(xiao)多晶PERC技術。據保利協鑫(xin)(xin)切片事業部(bu)副總(zong)裁(cai)金善明介紹，TS+黑(hei)硅片產(chan)品競爭(zheng)力(li)邁上新(xin)(xin)的(de)臺階，是(shi)近(jin)些年(nian)最(zui)具性價比(bi)和應用價值的(de)新(xin)(xin)產(chan)品，有望給多晶技術路線乃至晶硅陣營(ying)帶(dai)來深刻變革。保利協鑫(xin)(xin)總(zong)裁(cai)朱(zhu)戰軍、首(shou)席技術官萬躍鵬、高級副總(zong)裁(cai)鄭雄久、副總(zong)裁(cai)胡(hu)曉(xiao)君(jun)等出席發(fa)(fa)布(bu)會，保利協鑫(xin)(xin)副總(zong)裁(cai)呂錦(jin)標主持(chi)發(fa)(fa)布(bu)會。

　　金善明報告指出，保利協鑫TS+系列黑硅片，開創性地采用了“正面制絨”+“背面拋光”的獨特工(gong)藝(yi)，同(tong)時具備(bei)優良的表(biao)面(mian)(mian)陷光(guang)性(xing)(xing)能和更(geng)(geng)優的背面(mian)(mian)鈍化(hua)效(xiao)果(guo)，效(xiao)率更(geng)(geng)高(gao)而(er)成(cheng)本更(geng)(geng)低(di)，性(xing)(xing)價比顯著提(ti)升。TS+黑(hei)硅(gui)(gui)片(pian)正面(mian)(mian)采用(yong)第(di)二代(dai)濕法黑(hei)硅(gui)(gui)制(zhi)絨(rong)(rong)技術(shu)，繼承了(le)第(di)一代(dai)黑(hei)硅(gui)(gui)片(pian)優良的絨(rong)(rong)面(mian)(mian)結構，而(er)陷光(guang)性(xing)(xing)能更(geng)(geng)優。經驗證(zheng)，TS+黑(hei)硅(gui)(gui)在(zai)上一代(dai)黑(hei)硅(gui)(gui)的基礎上，電池(chi)效(xiao)率增益將再提(ti)升0.05-0.1個百分(fen)點，總體(ti)提(ti)升達0.3至0.4個百分(fen)點。TS+背面(mian)(mian)采用(yong)拋光(guang)技術(shu)，使得硅(gui)(gui)片(pian)制(zhi)絨(rong)(rong)加工(gong)成(cheng)本降(jiang)低(di)40%以上，達2-3分(fen)/瓦；同(tong)時，具備(bei)更(geng)(geng)高(gao)反射率的背表(biao)面(mian)(mian)，為背鈍化(hua)技術(shu)的實施提(ti)供可靠(kao)的材(cai)料基礎，大(da)大(da)降(jiang)低(di)多(duo)晶PERC工(gong)藝(yi)的背拋光(guang)成(cheng)本。

　　據介紹，TS+系(xi)列硅(gui)片(pian)由(you)于性價(jia)比的(de)顯著提升，使其(qi)具備很大的(de)應用推廣價(jia)值(zhi)。“采用TS+黑硅(gui)片(pian)的(de)電池平均轉換效(xiao)率(lv)可達(da)19.0%，組件（60片(pian)型）輸出(chu)功(gong)率(lv)達(da)275W以上(shang)(shang)”，金善明表示。相比常規多晶(jing)組件，基于TS+黑硅(gui)片(pian)制備的(de)60片(pian)組件，其(qi)組件功(gong)率(lv)提高5W以上(shang)(shang)，降本幅(fu)度(du)可達(da)6.5分(fen)/瓦，性價(jia)比十分(fen)突出(chu)。

　　鄭雄久表示，保利協鑫秉持合作開放的態度與客戶共享創新成果，圍繞著金剛線切多(duo)晶(jing)和濕(shi)法(fa)黑(hei)硅技術(shu)，共向市(shi)場提供三(san)種不同的(de)產品技術(shu)解決方案。第二代(dai)濕(shi)法(fa)黑(hei)硅技術(shu)的(de)研(yan)發成功，對加速推廣金剛(gang)線(xian)切多(duo)晶(jing)具有(you)重要意義。這一過(guo)程離不開客戶的(de)支持與合作，上(shang)下游企業間的(de)密切合作將為多(duo)晶(jing)技術(shu)路線(xian)開創新(xin)的(de)局面。

　　天合、阿特斯、中利騰暉、晶澳、英發、中節能、海潤、通威、越南光伏等多(duo)家(jia)知名光伏企業代(dai)表，以及媒體、行業分析機(ji)構出席發布會。據多(duo)家(jia)電池、組件(jian)廠(chang)商介(jie)紹，TS+黑硅片的(de)研(yan)發成功和量產具有重大的(de)技(ji)術革(ge)新意義，將顯著提(ti)升多(duo)晶(jing)(jing)產品的(de)綜合競爭(zheng)力，有望(wang)為全球60吉瓦(wa)以上的(de)多(duo)晶(jing)(jing)市場帶來(lai)深刻變革(ge)，加快實(shi)現(xian)光伏平價(jia)上網的(de)目標。

　　保利協鑫總裁朱戰軍表示，金剛線切多晶是硅片端降本的最有效途徑之一。在龍頭企業的帶動下，如今金剛線切多晶已是大勢所趨。保利協鑫11月的金剛線切多晶硅片出(chu)貨量占(zhan)比將超過80%，并且(qie)已經具(ju)備(bei)了(le)將全部產能(neng)切(qie)換為金(jin)剛線(xian)(xian)切(qie)的(de)(de)條件。與之(zhi)匹(pi)配的(de)(de)黑(hei)硅(gui)技術(shu)再次取得突破，使(shi)得金(jin)剛線(xian)(xian)切(qie)多晶黑(hei)硅(gui)片具(ju)備(bei)更(geng)強的(de)(de)性價比優(you)勢，并且(qie)更(geng)加支(zhi)持(chi)多晶PERC技術(shu)，成為高效率、低成本的(de)(de)最優(you)選擇。朱(zhu)戰軍再次重申(shen)，保利協鑫將繼續向業(ye)內免費(fei)共享“黑(hei)科技”2.0技術(shu)，同(tong)時向市場提供TS+系列黑(hei)硅(gui)片，身體力行地(di)推動新(xin)技術(shu)、新(xin)產品的(de)(de)產業(ye)化應用，謀求全行業(ye)的(de)(de)最大(da)化發展(zhan)。

　　據了解(jie)，保利協(xie)鑫(xin)位于(yu)揚州的(de)(de)(de)2GW黑(hei)硅項目(mu)已落成，即將(jiang)(jiang)于(yu)11月(yue)底完全(quan)釋放產能。于(yu)此同(tong)時，金(jin)(jin)(jin)剛(gang)線(xian)切(qie)片(pian)機(ji)改(gai)造也(ye)取得重(zhong)大進展，切(qie)片(pian)產能預計于(yu)年底全(quan)部轉換為金(jin)(jin)(jin)剛(gang)線(xian)切(qie)。“黑(hei)硅+PERC+金(jin)(jin)(jin)剛(gang)線(xian)”的(de)(de)(de)強(qiang)力(li)組合(he)拳將(jiang)(jiang)助力(li)更(geng)多的(de)(de)(de)高效(xiao)多晶產品(pin)邁(mai)入“光伏領跑者”計劃，產品(pin)效(xiao)率完全(quan)可以滿足“超級領跑者標準。主持發布會的(de)(de)(de)呂錦(jin)標表示(shi)，在金(jin)(jin)(jin)剛(gang)線(xian)硅片(pian)供不應求的(de)(de)(de)當(dang)下，保利協(xie)鑫(xin)正加快金(jin)(jin)(jin)剛(gang)線(xian)設備改(gai)造步伐，盡快過(guo)渡到(dao)100%提供優質低價的(de)(de)(de)金(jin)(jin)(jin)剛(gang)線(xian)硅片(pian)，未(wei)來(lai)一部分來(lai)不及(ji)改(gai)造的(de)(de)(de)砂漿(jiang)切(qie)割(ge)機(ji)將(jiang)(jiang)對外(wai)承接代(dai)工業務(wu)，確保不同(tong)需求的(de)(de)(de)平穩過(guo)渡。