申請號: 201711161678.8

申請日: 2017.11.21

國家/省(sheng)市:中(zhong)國江蘇(32)

公開號: 107760209A

公開日: 2018.03.06

主分類號:C09G 1/02(2006.01)

分類號: C09G 1/02(2006.01)

申請人: 常州市好利萊光電科技有限公司

發明人: 龍仕冬; 王文新; 史玉玲

申請人地址:江(jiang)蘇省常州市(shi)羅溪鎮空港產業園旺財路10號

摘要：本發明涉及一種精密拋光研磨液及其制備方法，屬于高精密研磨、拋光技術領域。本發明通過六亞甲基四胺在加熱的水相溶液中緩慢持續地分解成甲醛與氨氣，利用氨氣不斷與水反應產生OH﹣，從而使得溶液始終呈堿性，促使鈰離子與氫氧根結合，在硅溶膠表面緩慢均勻地析出，硅溶膠表面的析出物經過高溫煅燒氧化分解產生致密的CeO2層，最終殼層與核層之間產生了Si?O?Ce鍵，緊密結合在一起，利用硅溶膠良好的單分散性，不易產生分層、沉淀，且硅溶膠的生產工藝成熟、粒徑可控等特點，結合氧化鈰對拋光工件表面損傷較小，能有效提高被拋光工件的表面質量的性能，改善拋光磨料的分散性能(neng)和拋(pao)光性能(neng)。 

主權利要求

一種精密拋光研磨液，其特征在于，包括下述重(zhong)量份原料：1～2份復合硅拋(pao)光(guang)粉，2～3份十(shi)二烷基(ji)苯(ben)磺酸鈉，2～3份聚(ju)乙烯吡咯烷酮，100～150份乙醇溶(rong)液，150～200份次氯(lv)酸鈉溶(rong)液。