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MOCVD法在Si襯底上沉積用于NSOM設備的β-SiC薄膜

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作者:SangHunNam,MyoungHwaKim,JinHyoBoo摘(zhai)要(yao):利用(yong)金屬(shu)有機化學氣相(xiang)沉積法在真空(kong)(2.0×10?-6托)和不(bu)同溫(wen)度范圍(7

日期 2016-04-14   
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