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一種低電阻率碳化硅陶瓷及其制備方法

關鍵詞 碳化硅 , 陶瓷|2015-04-25 09:14:12|行業專利|來源 中國磨料磨具網
摘要 申請號:201410743574.8申請日:2014.12.08國家/省市:中國上海(31)
       申請號: 201410743574.8
       申請日: 2014.12.08
       國家/省市: 中國上海(31)
       公開號: 104478438A
       公開日: 2015.04.01
       主分類號: C04B 35/565(2006.01)
       分類號: C04B 35/565(2006.01); C04B 35/622(2006.01)
       申請人: 中國科學院上海硅酸鹽研究所

       發明人: 陳健; 黃政仁; 劉學建; 陳忠明; 姚秀敏; 袁明; 劉巖; 閆永杰; 朱云洲; 劉桂玲; 張輝
       代理人: 曹芳玲 鄭優麗
       代理機構: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙)(31261)
       申請人地址: 上海市長寧區定西路1295號

       摘要: 本發明涉及一種低電阻率碳化硅陶瓷及其制備方法,所述低電阻率碳化硅陶瓷的組成包括SiC、AlN、B4C、C,其中,AlN的含量1—5wt%,B4C的含量≤1wt%,C的含量為0—3wt%,其余為SiC。

       主權利要求 1.一種低電阻率碳化硅陶瓷,其特征在于,所述低電阻率碳化硅陶瓷的組成包括SiC、AlN、B4C、C,其中,AlN的含量1—5wt%,B4C的含量≤1wt%,C的含量為0—3wt%,其余為SiC。
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