摘要 在一定的真空狀態下,將從蒸發源蒸發的粒子部分地離子化,并和其余的中性粒子一起沉積在基體上而形成鍍層的技術,稱為真空離子鍍,簡稱離子鍍。也可稱為真空離子蒸鍍。
在一定的真空狀態下,將從蒸發源蒸發的粒子部分地離子化,并和其余的中性粒子一起沉積在基體上而形成鍍層的技術,稱為真空離子鍍,簡稱離子鍍。也可稱為真空離子蒸鍍。
1.在一定的真(zhen)空條件(jian)下(xia)進行。2.成(cheng)膜材料蒸發。可以(yi)采用真(zhen)空蒸鍍(du)相同的蒸發方法(fa),還(huan)可以(yi)采用空心陰(yin)(yin)極(ji)型電(dian)子束法(fa)和(he)真(zhen)空電(dian)弧法(fa)。3.蒸發的成(cheng)膜材料部分電(dian)離。電(dian)離方式,可以(yi)利用惰性(xing)氣體等離子體(例如(ru)直流輝(hui)光放電(dian)法(fa),空心陰(yin)(yin)極(ji)法(fa))...
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