無錫吉致電子25年研發生產——射頻濾波器拋光液 /半導體拋光液 /CMP拋光液/CMP化學機械拋光液/射頻濾波器Slurry/射頻濾波器CMP化學機械拋光液Slurry/射頻濾波器CMP集成電路拋光液/射頻濾波器拋光液拋光漿料Slurry

產品名稱：射頻濾波器拋光液/半導體拋光液/CMP化學機械拋光液

產品簡介：射頻濾波器拋光液適用于集成電路當中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。

具(ju)有高的銅去除速率，碟型(xing)凹陷(xian)可調，低(di)缺陷(xian)等(deng)特(te)性。可應用于(yu)邏輯芯(xin)片以及3D NAND和(he)DRAM芯(xin)片等(deng)量產使(shi)用。清(qing)除集(ji)成(cheng)電(dian)路中銅拋光(guang)(guang)后表(biao)面的拋光(guang)(guang)顆粒和(he)化學(xue)物殘留，以防(fang)銅表(biao)面腐(fu)蝕，降低(di)表(biao)面缺陷(xian)。

我司產品優點： 

1.懸浮(fu)性好，不(bu)易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均(jun)勻，不團聚，軟硬度適(shi)中，有效避免拋(pao)光(guang)過程中由于顆粒團聚導(dao)致(zhi)的工件(jian)表(biao)面(mian)劃(hua)傷缺(que)陷。

3.運用拋光過(guo)程中的化學(xue)新作(zuo)用，提(ti)高拋光速度，改善拋光表面的質(zhi)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提(ti)升拋(pao)光(guang)速率的同時降低微劃傷的概率，可(ke)以提(ti)高拋(pao)光(guang)精度。

5.無(wu)粉塵產生(sheng)，關(guan)注環保和人體(ti)健康安全。

可定制化：我們的拋光液可以根據客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩定離子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求)