無錫吉致電子25年研發生產——氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye) /Oxide slurry/CMP拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)物CMP研磨液(ye)(ye)/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)物化(hua)(hua)學機(ji)械(xie)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)/半導體CMP拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)lapping研磨拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)slurry/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)漿(jiang)料/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)集(ji)成電路拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)CMP化(hua)(hua)學機(ji)械(xie)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)slurry/氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)層(ceng)(ceng)(ceng)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)液(ye)(ye)slurry 

磨料類型：半導體cmp拋光液slurry

磨料粒徑：納米級SiO2

產品特點：納米級SiO₂磨料，粒徑均一穩定，去除速率穩定，金屬離子含量低，通過CMP工藝可有效去除表面氧化層，達到理想平坦度。

吉致電(dian)子Oxide Slurry與國內(nei)外同類產品相比，具(ju)有易清洗、表面粗(cu)糙度低等(deng)特(te)點(dian)。

吉致電子氧化層拋光液/OxideSlurry拋光液儲存方法：

通風(feng)，陰涼，干(gan)燥(zao)的庫(ku)房，本品需(xu)在5-35℃儲(chu)存(cun)，防(fang)止陽光直(zhi)射及凍結，零度以(yi)下因(yin)產生不(bu)可再分散結塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格：

吉致電子的CMP金屬拋光(guang)液(ye)生產技術(shu)是引進(jin)國外生產技術(shu)和設備(bei)(bei)，特殊化學配方制備(bei)(bei)而(er)成(cheng)。吉致電子拋光(guang)液(ye)品質(zhi)可以(yi)媲美進(jin)口同類產品。

本土化生產使得(de)吉致電子CMP拋(pao)光液產品交貨周期(qi)快，品質好，拋(pao)光液價格親民(min)。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉(ji)致電子(zi)科(ke)技有(you)限公司(si)擁有(you)成熟的加工(gong)工(gong)藝，為(wei)不銹鋼、銅(tong)、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石(shi)、光學(xue)玻璃等(deng)各類拋(pao)光加工(gong)服務。為(wei)您(nin)提供可靠拋(pao)光解決方(fang)案！