一、產品概述

爆(bao)轟納米金(jin)剛石微粉（簡(jian)稱NND，又稱超(chao)細(xi)金(jin)剛石UFD）是一(yi)種通過負氧炸藥爆(bao)轟技術(shu)制(zhi)備的(de)新型(xing)納米級金(jin)剛石材(cai)料。其核心原理是利(li)用炸藥爆(bao)轟過程(cheng)中產生的(de)高壓(ya)、高溫環境，促使游(you)離碳快速

轉化為(wei)納(na)米(mi)級(ji)金剛石(shi)顆粒。與(yu)穿(chuan)統靜壓(ya)合成金剛(gang)石（棱角分明(ming)、易解理）不(bu)同(tong)，爆轟納米(mi)金剛(gang)石呈現獨(du)特的(de)球形(xing)結構，無(wu)銳邊，單晶粒粒徑僅4-7nm，是目(mu)前(qian)已知粒度最細的(de)金剛(gang)石微粉之一。

二、核心制備工藝

爆轟納米金剛石的制備依托負氧炸藥爆轟技術：

在(zai)密閉容器中，通過特定配比(bi)的(de)負氧炸(zha)藥（氧平衡為負，確(que)保爆炸(zha)后產生(sheng)游離碳）引爆，瞬(shun)間產生(sheng)約30-50GPa的(de)高(gao)壓和3000-5000℃的(de)高(gao)溫環境。在(zai)此極端條(tiao)件(jian)下(xia)，游離碳快速發(fa)生(sheng)相變(bian)，形成納

米級金(jin)剛石顆粒。該工藝突破了

傳統(tong)靜壓合成(cheng)(cheng)（需(xu)超高壓設(she)備(bei)(bei)）的局限性(xing)，實現(xian)了低成(cheng)(cheng)本、大規模制備(bei)(bei)納米級金(jin)剛石的技術創新。

三、核心性能優勢

1. 超小粒徑與球形結構，突破傳統金剛石局限

爆轟(hong)納米(mi)金(jin)(jin)剛(gang)(gang)石單晶粒(li)僅4-7nm，遠小于常規(gui)金(jin)(jin)剛(gang)(gang)石微粉（微米(mi)級(ji)），且呈(cheng)規(gui)則(ze)球形、無銳邊。這一(yi)特性使其(qi)在應用中避免了(le)傳統棱(leng)角狀(zhuang)金(jin)(jin)剛(gang)(gang)石因(yin)易(yi)解(jie)理、劃傷工(gong)件的缺陷，尤其(qi)適用于對表面(mian)精

度要求(qiu)極高(gao)的超精密加(jia)工場景。

2. 超大比表面積，賦能多場景活性需求

產品顆粒度極小，比表面(mian)積(ji)高(gao)達300-420㎡/g（約為(wei)常規微米級金剛石的(de)10-20倍）。超(chao)大的(de)比表面(mian)積(ji)意味(wei)著(zhu)更多的(de)表面(mian)活性位(wei)點，在催(cui)化載(zai)體、吸(xi)附材料、復合材料增強(qiang)相等領域具有顯著(zhu)優勢(shi)：

作為催(cui)化劑載體時(shi)，可負載更多活(huo)性(xing)組分，提升催(cui)化效率；

用(yong)于吸附材料(liao)時，能(neng)高效捕(bu)獲小(xiao)分子污染物或特定(ding)離子；

與樹脂/金屬復(fu)合時，可(ke)增強界(jie)面結(jie)合力，提升復(fu)合材(cai)料(liao)綜合性能。

3. 優異分散性，保障體系穩定性

納米(mi)級粒徑(jing)配(pei)合球形結構，使(shi)爆轟納米(mi)金剛石在水(shui)、有機溶劑等分散介(jie)質中表(biao)現(xian)出極佳的分散性(xing)與懸浮性(xing)：

分散(san)后(hou)體系長期靜置不易沉淀，避免了(le)傳(chuan)統微粉因團聚導(dao)致(zhi)的(de)性能衰減；

可均勻分(fen)(fen)布于潤滑劑、涂(tu)料(liao)、拋光(guang)液等體系中，確保功能(neng)成分(fen)(fen)的持(chi)續(xu)穩定釋放(fang)；

尤(you)其(qi)適用于對均(jun)勻性(xing)要求高(gao)(gao)的納米流體、高(gao)(gao)端(duan)潤滑添加劑等領(ling)域。

4. 超精密拋光能力，突破表面粗糙度極限

爆轟(hong)納米金(jin)剛石憑(ping)借超小粒徑與球形結構，在超精細拋光領(ling)域展現出不可(ke)替(ti)代的優勢(shi)：

可實現“無(wu)損傷拋光”，避免傳統棱角狀磨(mo)料對工件表面的(de)劃(hua)傷；

拋(pao)光后工件表(biao)面(mian)粗糙(cao)度低(di)至0.2nm以(yi)下(xia)（接近(jin)原(yuan)子(zi)級光滑），遠(yuan)超常規金剛石微粉的拋(pao)光精度；

廣泛應用于(yu)半導(dao)體(ti)(ti)(ti)芯片(pian)（如(ru)硅片(pian)、GaN襯底(di)）、光學晶(jing)體(ti)(ti)(ti)（如(ru)藍寶石、激光晶(jing)體(ti)(ti)(ti)）、精(jing)(jing)密陶瓷及高端金屬器件的(de)超(chao)精(jing)(jing)密加工。

四、典型應用場景

超精密拋光領域：半導體芯片、光學鏡頭、精密陶瓷的原子級表面拋光；

復合材料增強：高性能樹脂基/金屬基復合材料（如散熱片、耐磨涂層）的增強相；

催化與吸附：高效催化劑載體、環境治理吸附材料；

高端潤滑添加劑：納米潤滑油脂、減摩抗磨涂層的核心功能成分；

生物醫學領域（延伸潛力）：靶向藥物載體、生物傳感器的納米功能材料（需進一步表面修飾）。

產品參數

• 基本參數

  型號（Model）	NND-5	NND-10	NND-50	NND-100	NND-200	NND-500	NND-700	雜質含量
  粒度（Grit）	5nm	10nm	50nm	100nm	200nm	500nm	700nm	≤2%